Nano aluminijev oksid v prahu

Prah nano aluminijevega oksida, ki ga proizvaja naše podjetje, ima tališče 2050° in vrelišče 2980°. Široko se uporablja v premazih, odpornih proti obrabi, in plazemskih premazih, ki lahko povečajo odpornost premazov proti obrabi, jih naredijo bolj trpežne, olajšajo pretok in izboljšajo stopnjo praškastega premaza. V prevlekah jeklenih navitij lahko naš prah nano aluminijevega oksida služi tudi kot zaščitno sredstvo za toploto in sevanje, ki zagotavlja celovito zaščito jekla in podaljšuje njegovo življenjsko dobo; Uporablja se lahko tudi za mletje biokeramike in keramike iz aluminijevega oksida, visoko učinkovitih katalizatorjev, optičnih materialov, materialov za natančno poliranje in monokristalnih silicijevih rezin. Nano aluminijev oksid s svojimi odličnimi zaščitnimi in veznimi lastnostmi zagotavlja stabilnost in zanesljivost izdelkov na področju fluorescenčnih cevi in ​​žarnic; Poleg tega se nano aluminijev oksid uporablja kot premazni material na področju visokokakovostnega papirja za brizgalno tiskanje, ki lahko papirju podeli visok sijaj in odlično kakovost tiskanja, zaradi česar so natisnjeno besedilo in slike jasnejše. Nano aluminijev oksid lahko tudi izboljša pretočnost prahu, poveča pozitivni naboj tornega prahu in tako izboljša zmogljivost premazovanja praškastih premazov z uporabo metode elektrostatičnega trenja, kar prinaša nov preboj v sodobni tehnologiji premazovanja.

Naše podjetje proizvaja prah nano aluminijevega oksida z visokim tališčem, visoko kemično stabilnostjo in dielektričnimi lastnostmi, visoko trdoto, dobro odpornostjo proti obrabi in nizkimi stroški. Pršenje prahu nano aluminijevega oksida na površino kovin, keramike, plastike in drugih materialov lahko znatno izboljša površinsko trdnost, odpornost proti obrabi in odpornost proti koroziji. Nano aluminijev oksid ima odlično električno izolacijo, kemično vzdržljivost, toplotno odpornost, močno odpornost na sevanje, visoko dielektrično konstanto ter ravno in enotno površino. Uporablja se lahko kot podlaga za polprevodniške materiale in obsežna integrirana vezja ter se pogosto uporablja v mikroelektroniki, elektroniki in informacijski industriji.